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簡(jiǎn)要描述：無(wú)掩膜數字光刻機 MCML-120A采用數字微鏡 (DMD) 的無(wú)掩膜掃描式光刻機，365nm波長(cháng)直接從數字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過(guò)程，支持直接讀取GDSII和BMP文件全自動(dòng)化的對焦和套刻，易于使用
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2022-08-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：1118產(chǎn)品分類(lèi)
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| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
| 參數 | 見(jiàn)參數表 |
無(wú)掩膜數字光刻機 MCML-120A產(chǎn)品特點(diǎn)
采用數字微鏡 (DMD) 的無(wú)掩膜掃描式光刻機，365nm波長(cháng)
直接從數字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過(guò)程，支持直接讀取GDSII和BMP文件
全自動(dòng)化的對焦和套刻，易于使用
晶圓連續運動(dòng)配合DMD動(dòng)態(tài)曝光，無(wú)拼接問(wèn)題。全幅面絕對定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圓），滿(mǎn)幅面曝光時(shí)間5~30分鐘
500um最小線(xiàn)寬
可灰度曝光（128階）
尺寸小巧，可配合專(zhuān)用循環(huán)裝置產(chǎn)生內部潔凈空間
無(wú)掩膜數字光刻機 MCML-120A
應用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工
帶有2.5D圖案的微光學(xué)元件，衍射光器件制作
教學(xué)、科研
參數
MCML-110A | MCML-120A | |
Wavelength 波長(cháng) | 365nm | 365nm |
Max. frame 最大幀 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
Max exposure 最大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
Alignment accuracy 對準精度 | <200nm | <100nm |
field curvature 場(chǎng)曲率 | < 1 um | < 1 um |
Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
Input file 輸入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
Z level accuracy Z級精度 | <1 um | <1 um |
Environment 環(huán)境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
樣品
（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）
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